讲清楚点儿，光刻这条路其实分两拨：一拨想把光的波长弄得更短，像当年有人看好157nm；另一拨不是换光源，而是改变光在介质里的传播状态，让它“看起来”更短，浸润式DUV就是后者。后来又冒出个极紫外EUV，用13.5nm的光源一次成像，理论上省事多了，但设备贵得吓

光刻机 多重曝光 5nm工艺 duv duv光刻机 2025-11-14 21:14  5